膜厚及电性量测-银河官网入口-中国有限分公司-膜厚、电性、颗粒及缺陷量/检测

汞探针CV测试仪

一、简介美国Four Dimensions,Inc, 简称“4D”，成立于1978年，位于美国加州硅谷的Hayward, 4D公司专注于四探针设备和汞探针CV测试仪的生产和销售，累计销量达1000台以上，遍布世界各大半导体Fab化合物半导体企业，大学及科研机构。CVmap系统使用独特设计的汞探头直接在未金属化的晶圆上进行电容-电压（CV）和电流-电压（IV）测量。二、主要功能l 技术规格掺杂浓度测试范围为1E14 – 1E19···

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光谱椭偏仪RC2

一、简介J.A.Woollam公司于1987年由Woollam教授等创办。公司是由内布拉斯加州立大学的科研成果为基础衍生而来的专业生产光谱型椭圆偏振测量仪的厂商，公司研发、生产多种不同规格型号的椭偏仪。J.A.Woollam公司拥有超过100项的椭偏patent技术，确保公司的技术处于领先地位。已有2000多套椭偏仪已被安装到世界各地，广泛应用于各种领域的科研与生产当中。RC2是J.A.Woollam公司的最新的光谱···

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膜厚仪F50/54

一、简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。Filmetrics F50 系列的产品能以每···

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膜厚仪F54-XY

一、简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。Filmetrics F54-XY 系列的产品能···

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晶圆厚度/非接触电阻率测试仪MX608

Thickness ：Capacitive Sensors(电容探头)Resistivity ：Eddy Current Principle（涡流探头）Dopant ：Type Surface Photo Voltage System（表面光电压法）MX 608晶圆尺寸Wafer Size：100/125/150/200mm厚度Thickness ：500-800?m（300-600?m可选）电阻率Resistivity：0.001 – 200 Ohm·cmMX6012晶圆尺寸Wafer Size：200/300mm厚度Thickness ：600-900?m电阻率Resistivity：0.001 –···

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4D四探针测试仪

一、简介美国Four Dimensions,Inc, 简称“4D”，成立于1978年，位于美国加州硅谷的Hayward, 4D公司专注于四探针设备和CV测试仪的生产和销售，累计销量达1000台以上，遍布世界各大半导体Fab, 太阳能光伏企业，大学及科研机构，“4D”更是俨然已成为四探针的代名词。二、主要功能l 技术规格测量尺寸：晶圆尺寸：2-8寸（333系列可测2至12寸晶圆，1100系列可测量大至2160mmX2400mm平板系列）测···

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显微膜厚仪F40

一、简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F40用于测量光斑<1?m的薄膜膜···

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膜厚仪F20

一、简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。测量原理-光谱反射光谱椭圆偏振仪···

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膜厚仪F10-RT

一、简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。Filmetrics F10-RT以真空镀膜为设···

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膜厚仪F3

一、简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F3-sX可测试众多半导体及电介质层···

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