膜厚仪F54-XY

一、 简介

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。Filmetrics F54-XY 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，配备XY高精度移动台，样品直径可达200/300毫米。

二、 主要功能

l  主要应用

测量厚度、折射率、反射率和穿透率

?   单层膜或多层膜叠加

?   单一膜层

?   液态膜或空气层

膜厚2D和3D mapping绘制

图案化晶圆微曲膜厚测量

l  F54-XY-200技术特点

光谱波长范围：190-1700 nm（可选）

厚度测量范围：4nm-115 μm

测量n&k厚度：≥50 nm

准确度：取较大值，1nm或0.2%

精度：0.02nm

稳定性：0.05nm

微光斑：小至5um

AutoFocus自动聚焦功能

高精度XY移动台

图形识别功能，可自动测量图案化晶圆（选配）

自动镜头转塔（选配）

三、 应用

半导体薄膜：光刻胶、工艺薄膜、介电材料、CMP

液晶显示：OLED、玻璃厚度、ITO

光学镀膜：硬涂层厚度、减反涂层

高分子薄膜：PI、PC